Scanning electron microscopes

Tender description

Gegenstand der Ausschreibung ist ein Rasterelektronenmikroskop mit Feldemissions-Kathode. Es soll über eine große Kammer verfügen, um Bruchflächen auf Bauteilen oder Oberflächen von Proben nach dem Versuch automatisch großflächig abscannen zu können sowie metallographisch präparierte Schliffproben nacheinander abscannen zu können. Eine örtliche Auflösung von 1.0 nm bei 15 kV und 1.8 nm bei 1 kV im Sekundärelektronenmodus soll erreicht werden können. Das Rasterelektronenmikroskop muss über eine Programmierschnittstelle verfügen, um Positionierung der Probe in x, y und z-Richtung, Drehung und Kippung, Astigmatismus-, Helligkeit-, Kontrast und Fokuseinstellungen, Anfahren von Untersuchungsbereichen ab einer Referenzposition, Aufnahme und automatisches Abspeichern von Bildern einschließlich der Metadaten und das automatisierte Abrastern großer Flächen bei hohen Vergrößerungen zu ermöglichen. Der Hersteller hat zu garantieren, dass die Anforderungen des Strahlenschutzes erfüllt sind. Gegenstand der Ausschreibung ist ein Rasterelektronenmikroskop mit Feldemissions-Kathode. Es soll über eine große Kammer verfügen, um Bruchflächen auf Bauteilen oder Oberflächen von Proben nach dem Versuch automatisch großflächig abscannen zu können sowie metallographisch präparierte Schliffproben nacheinander abscannen zu können. Eine örtliche Auflösung von 1.0 nm bei 15 kV und 1.8 nm bei 1 kV im Sekundärelektronenmodus soll erreicht werden können. Das Rasterelektronenmikroskop muss über eine Programmierschnittstelle verfügen, um Positionierung der Probe in x, y und z-Richtung, Drehung und Kippung, Astigmatismus-, Helligkeit-, Kontrast und Fokuseinstellungen, Anfahren von Untersuchungsbereichen ab einer Referenzposition, Aufnahme und automatisches Abspeichern von Bildern einschließlich der Metadaten und das automatisierte Abrastern großer Flächen bei hohen Vergrößerungen zu ermöglichen. Der Hersteller hat zu garantieren, dass die Anforderungen des Strahlenschutzes erfüllt sind.