Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Tender description

Avviso di manifestazione di interesse per confermare i presupposti al ricorso di una procedura negoziata senza previa pubblicazione di bando di gara ai sensi dell’art. 63, comma 2, lett. b), punto 2, del D.Lgs. 50/2016 per la fornitura di un sistema di nanolitografia termica per il centro PoliFAB del Politecnico di Milano. Il Politecnico di Milano intende acquistare un sistema di nanolitografia termica da installare nella facility di micro e nano-fabbricazione PoliFAB. Tale sistema permetterà di soddisfare le esigenze degli utenti di PoliFAB, ampliando le possibilità a disposizione dei gruppi di ricerca e delle aziende rispetto a quanto possibile ora, nell’ambito della fabbricazione di nanodispositivi con applicazioni nella nanoelettronica, fotonica, ingegneria biomedica e scienza dei materiali. Il sistema dovrà consentire di effettuare la nanofabbricazione di classi diverse di materiali tra cui film sottili di materiali polimerici, materiali bidimensionali (come il grafene o MoS2), multistrati funzionali magnetici, materiali organici. Il sistema dovrà consentire la nanofabbricazione diretta di materiali, promuovendo fenomeni di conversione indotti termicamente (come sublimazione, cambiamenti di fase, reazioni chimiche) tramite la scansione di una sonda nanometrica calda sulla superficie del campione. Il sistema deve anche permettere l’imaging in-situ del substrato utilizzando la stessa sonda impiegata per la scrittura, per permettere la visualizzazione del substrato con risoluzione nanometrica nelle tre dimensioni, prima, durante e dopo il processo nanolitografico. Lo stesso sistema deve anche permettere la nanofabbricazione tramite irraggiamento con luce laser ultravioletta con risoluzione sub-micrometrica. L’adeguatezza del sistema in termini di risoluzione spaziale, flessibilità nel gestire substrati di tipologia e dimensione variabile, capacità di nanostrutturazione tridimensionale, e presenza di un adeguato software in grado di gestire la movimentazione del campione, l’attuazione della sonda e del laser, lo stitching tra diverse aree di scrittura e l’imaging in-situ del campione, coordinati con il processo di nanolitografia, saranno ritenuti requisiti essenziali.