Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Tender description

Das ausgeschriebene System besteht aus einem Chemical Vapour Deposition (CVD) -System, welches das Wachstum von Germanium / Silizium-Heterostrukturen ermöglicht. Insbesondere muss das System das Wachs-tum von Heterostruktur-Nanodrähte auf Germanium- und Siliziumbasis ermöglichen. Dies erfordert Operationstemperaturen zwischen mindestens 50 und 600o C. Auch muss die Temperatur während des Wachstumsprozesses vollständig kontrollierbar sein. Weiter wird während dem Wachstumsprozess die vollständige Kontrolle über den Druck in der Wachstumskammer, in einem Bereich zwischen 0.1 und 300 Torr, benötigt. Zugang für 6 verschiedene Gasquellen, welche individuell durch Mass Flow Controller (MFCs) gesteuert werden, sollte gewährleistet sein. Eine Systemsteuerungssoftware sollte Echtzeit-Prozesssteuerung, Datenprotokollierung und Rezeptbearbeitung ermöglichen. Das System muss über Software- und Hardware-Sicherheitsverriegelungen verfügen. Das ausgeschriebene System besteht aus einem Chemical Vapour Deposition (CVD) -System, welches das Wachstum von Germanium / Silizium-Heterostrukturen ermöglicht. Insbesondere muss das System das Wachs-tum von Heterostruktur-Nanodrähte auf Germanium- und Siliziumbasis ermöglichen. Dies erfordert Operationstemperaturen zwischen mindestens 50 und 600o C. Auch muss die Temperatur während des Wachstumsprozesses vollständig kontrollierbar sein. Weiter wird während dem Wachstumsprozess die vollständige Kontrolle über den Druck in der Wachstumskammer, in einem Bereich zwischen 0.1 und 300 Torr, benötigt. Zugang für 6 verschiedene Gasquellen, welche individuell durch Mass Flow Controller (MFCs) gesteuert werden, sollte gewährleistet sein. Eine Systemsteuerungssoftware sollte Echtzeit-Prozesssteuerung, Datenprotokollierung und Rezeptbearbeitung ermöglichen. Das System muss über Software- und Hardware-Sicherheitsverriegelungen verfügen.